Q&A
Q&A 게시판은 현재 아카이브 용도로만 유지되고 있으며 새로운 질문은 받지 않습니다. 질문사항이 있을 경우 seolhye.eedf@snu.ac.kr로 교수님께 이메일을 보내주시기 바랍니다.
The Q&A board is now kept as an archive only and no longer accepts new questions. If you have any questions, please email Prof. Seolhye Park at seolhye.eedf@snu.ac.kr.
Chamber component
Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
안녕하세요 한양대학교에서 연구중인 연구원입니다.
ALD 공정 진행중 plasma를 방전시키는 순간 갑자기 펌프가 꺼지면서 장비상에 Forward와 Reflect가 계속해서 잔여한다고 나오는 상태입니다.
Matcher와 연결된 수관의 온도가 일시적으로 높아져서 matcher에 이상이 생겨서 그럴 수 있을까요?
수관의 온도를 낮춘뒤에도 계속해서 Forward와 Reflect가 걸리고 있고 이 때문인지 펌프가 계속 켜지지 않고 있습니다.
사진과 같은 상황입니다.
감사합니다.
계속해서 잘 되다가 갑자기 이런 문제가 발생했고 공정 조건을 변경한 것은 없었습니다.

급하실 것 같아 서둘러 답신 드립니다. 한양대학교 교내에 있는 플라즈마전자공학 연구실/나노과학기술 연구소에 문의해 보세요 RF 문제를 잘 다뤄주실 것 같습니다.
RF signal이 들어가지 않으면 Forward와 reflect는 발생할 수 없습니다. 이 값들이 같고 6553W, Set power point 0W로 세팅 되어 있고 RF off로 되어있으니, 통신 오류를 의심해 봐야 할 것 같습니다. RF generator와 PLC 연결 지점에 protocol 혹은 아날로그를 사용하고 계신다면 아날로그 Analog Input(장비쪽 input)을 확인해 봐야 할 것 같습니다.