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Etch

가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]

Author
주정아
Date
2024-07-16
Views
3945

안녕하세요. 식각 공정 관련 업계에 종사하고 있는 주정아라고합니다.

 

SiON, Si3N4과 같이 Si,N 원소를 포함한 가스와 CHF3과 같은 H를 포함한 가스들이 반응했을 때,

 

특히 저온으로 갈수록 식각률이 증가하는 내용을 접했습니다.

 

그 원인에 대해 조사하고 싶은데, 검색해봐도 잘 나오지않아 조언을 구합니다.

 

고견주시면 감사하겠습니다.

 

좋은 하루 되세요.

 

Total 1
  • 2024-07-17 09:13

    이 문제 먼저 Arrhenius equation (아레이누스 식)을 공부하시면 좋겠네요. 본 게시판이나 관련 정보는 쉽게 얻을 수 있습니다. 도전해 보세요.  

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