===============================<질문>============================


반도체 제조 장비 중 Dry Etch 장치의 Chamber내의 상부 전극의 역할과


Si 전극, Cabon 전극, Grpite 전극..등의 성분과 특성, Plasma 형성차이등,,,


에 대해서 설명 좀 해주세요...






=============================<답변>==============================




반응기에서 전극의 역할 중 가장 중요한 역항을 플라즈마 발생과


관련있다고 할 수 있습니다. 이런 관점이라면 전극으로 유입되는


이온에 의한 이차전자 방출량이 플라즈마 생성 효율에 밀접한


영향을 주게 됨으로 전극의 재질은 유입되는 이온 종 과 에너지에


따라서 얼마나 이차전자가 방출되는가 를 살펴보아야 합니다.


또한 이차전자의 방출과 아울러 전극 표면의 입자도 스퍼터링 되어


나오게 되며 이는 종종 반응에 불필요한 불순물 역할을 하게 됩니다.


이런 화학적 특성 또한 전극을 선택하는 요인이 되기도 합니다.


참고가 되었기를 바랍니다.