Plasma
Information
-based
Artificial
Intelligence
(PI-AI)
은 반도체 디스플레이 제조 플라즈마 공정, 핵융합 플라즈마 진단 및 모니터링, 플라즈마 응용 물리 분야 등 다양한 분야에서 “Data-driven Plasma Science”를 연구합니다.
세계 최고의 반도체 디스플레이 제조현장에서 생성되는 각종 데이터로부터 Plasma Physics 정보를 추출하고,
이를 AI 와 융합하는 플라즈마 정보 기반 가상계측 (PI-VM: Plasma Information-based Virtual Metrology) 기술,
플라즈마 정보 기반 공정 자동 제어 (PI-APC: Plasma Information-based Advanced Process Control) 기술과 다양한 범위의 PI-AI (Plasma Information-based Artificial Intelligence) 연구를 진행합니다.
반도체 디스플레이 공정의 결과 예측, 원인계 역추적, 공정 설계 및 양산 제어 등 다양한 영역에 PI-AI를 적용하는 연구를 이끌어가고 있습니다.
Plasma
Processes
for Semiconductor
& Display
Manufacturing
은 반도체 디스플레이 제조에 응용되는 다양한 신공정 및 차세대 공정을 개발합니다.
PI-AI 기반의 유연한 방법론과 Low-Temperature Plasma Physics 에 대한 깊이 있는 이해, Kinetics 모델링 기법, 다양한 플라즈마 진단 기술,
플라즈마와 대면 물질의 반응에 대한 모델링을 통해 Etch, PECVD, Sputtering 등의 전형적인 플라즈마 공정의 새로운 Pattern Architecture 에 대한 공정 적화,
신물질 공정 개발, 극저온 공정 및 ALE, ALD 등 차세대 Chip 을 위한 플라즈마 공정에 대한 연구를 진행하고 있습니다.
Plasma
Physics &
Application
은 반도체 디스플레이 플라즈마 제조 공정의 기반이 되는 Plasma Physics를 깊이 있게 연구합니다.
특히, 복잡한 공정 플라즈마의 해석에 필수적인 동역학 모델링을 기반으로 하여 현상을 해석하는 연구와,
Low-Temperature Plasma Physics Society에서 여전히 난제의 영역으로 남아있는 Plasma Sheath에 대한 연구를 깊이 있게 진행합니다.
음이온이 포함된 플라즈마의 Sheath Dynamics, 전자 가열 이론, 플라즈마 광진단 및 전기 진단 기술에 대한
깊이있는 연구를 통해 분야를 이끌어가고 다양한 영역으로 플라즈마의 응용을 시도해가고 있습니다.
Plasma
-facing
Materials
and Surface
Reaction
은 반도체 디스플레이 플라즈마 공정 해석의 마지막 실마리이자 핵융합 상용화의 핵심 기술 중 하나인
Plasma-facing Materials와 Surface Reaction에 대한 연구를 수행하고 있습니다.
이를 통하여 Plasma의 Volume, Sheath 영역과 끊임없이 상호작용하고 있는 표면의 변화에 대한 깊이 있는 해석을 진행하고 있으며,
다양한 플라즈마 응용 공학 분야의 기반 기술로 활용되고 있습니다.