질문 ::



DC MAGNETRON SPUTTER에서 T/G쪽에 (-)를 인가하는데


(+)를 인가하면 SPUTTERING이 가능한지요?????




답변 ::




Sputtering은 타겟 표면의 에너지를 인가하여 시편 표면의 원자들이


튀어나옴으로서 가능합니다. 따라서 타겟 표면에 에너지를 효율적으로


전달하기 위해서는 플라즈마 내에서 질량이 큰 입자를 사용하고


이 입자에 에너지를 효율적으로 줄 수 있어야 합니다. 이 조건을


만족하는 것은 이온으로 양전하를 띄고 있어 전기장을 인가함으로서


이온에 에너지를 줄 수 있으며 질량도 큽니다. 따라서 에너지 높은


이온을 이용하려면 타겟에 음전위를 인가해야 할 지 양전위를 인가해야


할가에 대한 답이 나옵니다. 여기서 양전위 혹은 음전위의 기준 전위는


밖에서 정하는 접지 전위가 아닌 플라즈마 전위 혹은 플라즈마 부유 전위가 기준이 됩니다. 참고하세요