질문 ::



sheath가 형성된 부분은 전위가 매우 낮다가 일정영역에서는


높은 전위로 일정하게 유지되는데...




그렇다면 플라즈마내에서 voltalge drop이 있다고 해야하는 건가요??




어디서 어디까지가 플라즈마 형성 영역으로 봐야하는건지


잘 모르겠습니다.




아님 그냥 밀도 차이로 보면 되는건가요??




애매해서 질문드립니다.






답변 ::




플라즈마는 준중성상태를 유지하고 집단행동을 할 정도의 많은 하전입자의 모임입니다. 플라즈마 쉬스는 플라즈마의 경계에서 생기는


플라즈마의 일부분으로 쉬스에서는 플라즈마의 본래


특성인 준 중성상태의 조건을 위배하며 이온이 많고 강한 전기장이 형성되는 영역입니다. 쉬스와 플라즈마 본체 사이에는 플라즈마 온도의 절반에 해당하는 전위차를 갖으며 이 전위차로 부터 이온이 에너지를 받아 쉬스로 입사되게 되는, 즉 이온이 가속되는 영역인 프리 쉬스 (전외장)이 형성되어 있습니다. 프리쉬스 내에서는 플라즈마의 준 중성 상태는 유지됩니다.




따라서 플라즈마 특성이 유지되는 곳으로 플라즈마


크기를 정의한다면 쉬스 영역을 제외하고 생각하는


편이 옳을 수 있습니다. 정확히 이야기 하면 프리 쉬스 (전외장)까지


이겠지요. 하지만, 플라즈마 상태가


유지되는 곳의 그 가장자리에는 늘 쉬스가 형성되어 있음으로


플라즈마와 쉬스를 분리해서 플라즈마 용적을 생각하기는 어렵습니다.




쉬스에 대해서는 여러차례 설명을 했으니 이전 설명을 참고하기 바랍니다.