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Chamber Impedance

플라즈마 챔버 의 임피던스 관련

작성자
김곤호
작성일
2010-05-05
조회
30151

안녕하십니까?

저는 RF관련한 챔버,매칭박스,제네레이터 관련한 업무를 시작하게된 강철호라고 합니다,


공정 진행중 여러가지 원인에 의한 챔버의 임피던스 변화를 RF 제네레이터와 매칭 시키기 위해 매칭 박스를


이용한는 것으로 알고 있습니다..


여기서 질문입니다.


챔버의 임피던스가 변한다는것이  임피던스가 증가하는것인지,감소하는 것인지, 또는 2가지 경우가  랜덤하게


진행 되는 것인지 궁굼합니다..


만약 임피던스가 증가한다면 매칭박스가 어떤 원리로 매칭박스+챔버의 임피던스를 50Ω 으로 매칭할수 있는지


모르겠습니다.


너무 기초적인 지식이 없어 열심히 공부하려고 하니  성의 있는 답변 부탁드립니다

전체 2
  • 2010-05-05 13:56
    - 아래 199번 항의 내용을 참고하세요. 아울러 참고하실 만한 논문은 아래와 같습니다.

    - 참고 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.

  • 2022-01-25 17:11

    안녕하세요. 10년 전의 댓글에 질문을 드리게 되네요.

     

    혹시 글 게시자 님과 비슷한 질문을 남기려던 차에 보게 되었습니다. 

    아래 199번 항의 내용을 참고 하시라고 말씀하셨는데 어떤 것의 199번 항을 참고 하는 것일까요???

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