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VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리]

작성자
ysppaku
작성일
2012-09-07
조회
58612

안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.

플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.

질문

1.VPP가 어떤건지?

2.VDC가 어떤건지?

3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?

위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.

참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.

정말 감사합니다.

전체 1
  • 2012-09-26 21:12
    표현의 차이가 있지만, 저희 QA에 관련 사항에 대한 답변을 이미 드렸으니 참고하시기 바랍니다. 이와 함께 플라즈마 발생 원리에 대해서 이해해 보시고 만들어진 플라즈마는 목적에 따라 매우 다양한 방법으로 제어하게 됩니다만, 기본적으로는 플라즈마 밀도, 이온의 입사 에너지, 플라즈마 온도 등을 제어해서 원하시는 표면처리, 가스 처리 등에 활용하게 됨을 참고하시고 장치를 이해해 보면 좋을 것입니다. 여기서 공정 목표의 이해는 선행되어야 함을 말씀드립니다.
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