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OES

Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]

작성자
박지태
작성일
2020-09-11
조회
6285

안녕하세요.

 

우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다

 

Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!

 

전체 2
  • 2020-09-14 17:25

    공정 진단 방법 개발의 일환으로 보입니다만, 장비 및 방전 구조에 따른 변수가 많습니다.

    만일 하기 운전조건이라면 쉽지 않아 보이며, 그 이유에 대해서는 아래 질문의 답변을 참고하시기 바랍니다.

    하지만 다른 구조 및 운전 영역에서 ONO  공정 중 질화막 모니터링 방법에 대한 연구 결과가 있으니 기술 개발에 참고해 보세요.

    본 연구실 발표 2018년 "Development of the Virtual Metrology for the Nitride Thickness in Multi-Layer Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Plasma-Information Variables" IEEEPS. 

  • 2020-09-15 13:47

    교수님 말씀처럼 변수가 너무 많긴 한데;; 굳이 시도해보자면, high pressure + high source RF power에 polymer gas의 비율을 높혀서 인위적으로 chamber를 폴리머로 덮을 수 있습니다. 문제는 view port가 있는 wall 까지 증착이 쉽진 않을것 같습니다. 대신 여분에 파트가 있다면 view port glass를 "Kapton" tape등을 이용하여 wafer에 붙이고 하는 방법을 추천 드립니다. 

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