Q&A

Q&A 게시판은 현재 아카이브 용도로만 유지되고 있으며 새로운 질문은 받지 않습니다. 질문사항이 있을 경우 seolhye.eedf@snu.ac.kr로 교수님께 이메일을 보내주시기 바랍니다.

The Q&A board is now kept as an archive only and no longer accepts new questions. If you have any questions, please email Prof. Seolhye Park at seolhye.eedf@snu.ac.kr.

Etch

플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응]

작성자
작성일
2024-07-03
조회
8048

안녕하세요, 플라즈마 식각 관련 연구를 수행 중인 석사과정 대학원생입니다.

 

플라즈마 식각에서 폴리머 증착 및 분해를 통해 비등방성 식각을 수행할 수 있다고 이해하고 있습니다.

그러나 식각 과정 중 설비 내에 부산물, 즉 폴리머가 웨이퍼, ESC, 링 사이에 축적되어 아킹(arcing)이 발생하고,

이로 인해 웨이퍼 및 설비에 손상을 입히게 된다는 것을 알게 되었습니다.

 

이와 관련하여, 부산물인 폴리머가 어떤 메커니즘으로 분해가 일어나며,

폴리머가 축적되는 이유가 어떤 건지 여쭙습니다.

 

감사합니다.

전체 1
  • 2024-07-05 13:20

    저도 잘 모릅니다. 하지만 좋은 학위 논문 주제로 보입니다. 대상이 되는 장치, 가스 종, 프로세스 타킷, 재료 표면 반응, 가용 플라즈마의 특성, 고려하는 부품 재료 물성, 가스 배기 유로, 와 구체적인 설계 자료가 종합되어야 할 것 같습니다. 아마도 여기서 항목별 관계를 찾는 연구들이 많이 있을 것이니, 이를 종합해서 멋진 결과를 만들 수 있을 것 같습니다. 좋은 주제이니 잘 풀어가시기를 응원합니다.