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Process
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
작성자
작성일
2022-11-19
조회
3187
안녕하세요
현재 반도체관련 회사에 재직중입니다.
다름아니라 Ta material을 Deposition하는데 PVD에서는 DC Soruce sputtering을 이용해서 사용하는데
RF source sputtering을 하게되면 어떤 단점이 있고 장점이 있을까요?
아님 Ta material에 대한 제한이 있는것 일까요?
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